[Samsung Electronics accélère la R&D sur le procédé avancé 1,4 nm, approfondit sa collaboration avec Applied Materials et Lam Research, selon des sources.]

Publié: Jun 30, 2026 11:35

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Le média coréen The Bell a rapporté le 26, heure locale, que Samsung Electronics accélère à nouveau les travaux de R&D sur le procédé 1,4 nm (SF1.4). Ce nœud avancé devait initialement entrer en production de masse en 2027, mais en raison d’un recentrage de ses activités de fonderie, le calendrier a été repoussé à 2029. Le rapport précise que Samsung Electronics a récemment partagé le schéma du procédé SF1.4 avec de grands équipementiers tels qu’Applied Materials et Lam Research, afin de favoriser une collaboration amont-aval et d’accélérer la constitution du portefeuille d’équipements le mieux adapté à cette période, y compris des versions personnalisées d’équipements standard. Samsung Electronics a déjà acquis l’équipement de lithographie EUV à grande ouverture numérique (High NA) d’ASML, déployé au sein du complexe de R&D semi-conducteurs NRD-K. Pour Samsung Electronics, cet outil de lithographie EUV High NA devrait être utilisé en production au plus tôt sur la période SF1.4.

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