[Nguyên mẫu nguồn sáng EUV của Trung Quốc đạt tỷ lệ nội địa hóa 90%; sản xuất hàng loạt còn 3–5 năm nữa]
Hội chợ Công nghiệp Quốc tế Trung Quốc lần thứ 26 đang diễn ra tại Trung tâm Hội nghị và Triển lãm Quốc gia, nơi hơn một trăm thành tựu khoa học công nghệ Thượng Hải được trưng bày tại Gian hàng Công nghệ Đổi mới. Tại gian hàng Landau Suiyan, một hệ thống nguyên mẫu nguồn sáng EUV lần đầu ra mắt tại hội chợ. Đây hiện là nguyên mẫu nguồn sáng EUV nội địa tiên tiến nhất được trưng bày công khai, và còn được gọi là "trái tim" của máy quang khắc cao cấp. Nguồn sáng EUV là một trong ba bộ phận cốt lõi để sản xuất chip tiến trình tiên tiến 7 nm trở xuống. Chúng từ lâu đã chịu sự độc quyền công nghệ và cấm vận từ bên ngoài Trung Quốc, khiến đây trở thành mắt xích then chốt hạn chế khả năng tự chủ chip cao cấp của Trung Quốc. Nhân viên tại hiện trường giới thiệu rằng hệ thống nguồn sáng được trưng bày đã đạt tỷ lệ nội địa hóa 90%, với phần lớn các bộ phận cốt lõi được nghiên cứu và phát triển độc lập. Lộ trình kỹ thuật của nó nhất quán với các nhà sản xuất hàng đầu quốc tế, và có thể được sử dụng để kiểm tra phơi sáng chip. Mặc dù sản xuất hàng loạt còn cách 3–5 năm nữa, đột phá này đánh dấu bước tiến then chốt trong việc đưa nguồn sáng EUV của Trung Quốc từ phòng thí nghiệm tiến tới công nghiệp hóa.