히썸의 도트 코팅 분리막 특허 출원 미국에서 공개

게시됨: Sep 30, 2026 08:14 (GMT+8)

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9월 24일, 샤먼 하이티움 에너지저장기술 유한회사가 분리막, 배터리 및 에너지 저장 장치에 대해 출원한 미국 특허출원서가 공개번호 US 2026/0291006 A1로 공식 공개됐다. 이 설계는 기본 분리막에 점 패턴 접착 코팅(환형 접착 도트 포함)을 결합해 접착력과 공기 투과성 간 균형을 개선하는 것이 특징이다. 또한 음극 계면에서의 주름 발생을 줄이고 리튬이온 배터리의 에너지 효율을 향상시키는 것을 목표로 한다. 해당 출원은 2026년 3월에 제출됐으며, 9월 24일에 공식 공개됐다.

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