[Purwarupa sumber cahaya EUV Tiongkok mencapai lokalisasi 90%; produksi massal masih 3–5 tahun lagi]
Pameran Industri Internasional China ke-26 sedang berlangsung di Pusat Konvensi dan Pameran Nasional, di mana lebih dari seratus pencapaian ilmiah dan teknologi Shanghai dipamerkan di Paviliun Teknologi Inovasi. Di stan Landau Suiyan, prototipe sistem sumber cahaya EUV melakukan debutnya di pameran tersebut. Saat ini, ini adalah prototipe sumber cahaya EUV buatan dalam negeri paling canggih yang dipamerkan untuk umum, dan juga dikenal sebagai "jantung" mesin litografi kelas atas. Sumber cahaya EUV adalah salah satu dari tiga komponen inti untuk memproduksi chip proses canggih 7 nm ke bawah. Komponen ini telah lama menjadi sasaran monopoli teknologi dan embargo di luar China, menjadikannya mata rantai kunci yang membatasi kemampuan China untuk menguasai chip kelas atas secara mandiri. Staf di lokasi memperkenalkan bahwa sistem sumber cahaya yang dipamerkan telah mencapai lokalisasi 90%, dengan sebagian besar komponen inti dikembangkan secara mandiri melalui riset dan pengembangan. Rute teknisnya konsisten dengan produsen terkemuka internasional, dan dapat digunakan untuk pengujian paparan chip. Meskipun produksi massal masih berjarak 3–5 tahun, terobosan ini menandai langkah kunci dalam memindahkan sumber cahaya EUV China dari laboratorium menuju industrialisasi.