[Les ressources en minerai d'étain augmentées de 45 %, étape clé franchie dans le développement de la mine d'étain à ciel ouvert de Bygoo en Australie]

TOP Nanometal Corporation, un fabricant taïwanais de pulvérisation cathodique sous vide en continu, a cessé immédiatement la production de films conducteurs transparents en oxyde d'indium-étain. L'entreprise convertira entièrement ses anciens équipements dédiés à l'oxyde d'indium-étain vers la production haut de gamme de cuivre pulvérisé, en se concentrant sur les stratifiés souples cuivrés sans adhésif, les films de polyester cuivrés pour écrans transparents à diodes électroluminescentes et les films minces de cuivre pour électrodes flexibles. TOP Nanometal a attribué cette décision à l'intensification de la concurrence et à la réduction des marges bénéficiaires sur le marché des films d'oxyde d'indium-étain, tandis que la demande des clients et la rentabilité étaient plus fortes pour les produits en cuivre pulvérisé. SMM estime que cette fermeture montre que les films conventionnels d'oxyde d'indium-étain font face à une concurrence croissante en termes de coûts et de rentabilité de la part des matériaux conducteurs à base de cuivre dans certaines applications d'électronique flexible et d'affichage transparent. Cette conversion réduira la demande de l'entreprise en cibles d'oxyde d'indium-étain et en matières premières d'indium, bien que sa capacité de production antérieure, sa production, ses achats de cibles et sa consommation d'indium n'aient pas été divulgués.

JX Advanced Metals Corporation prévoit d’investir jusqu’à 120 milliards de yens sur quatre ans pour accroître fortement sa capacité de production de substrats en phosphure d’indium (InP) destinés aux communications optiques. En incluant les projets déjà annoncés, l’investissement cumulé de l’entreprise dans ce domaine atteindra environ 150 milliards de yens. En plus de l’extension de son usine actuelle d’Isohara, dans la préfecture d’Ibaraki, JX Advanced Metals installera des capacités supplémentaires dans la zone d’Hitachinaka, avec pour objectif de porter sa capacité de production de substrats InP à environ sept à dix fois son niveau actuel. L’entreprise a indiqué que les demandes de fourniture supplémentaire de la part de ses clients, liées à leurs propres projets d’expansion, ont fortement augmenté et que la demande progresse désormais au-delà de ses prévisions antérieures. Elle discutera également de révisions de prix avec ses clients afin de mettre en place un cadre d’approvisionnement stable. SMM estime qu’il s’agit de l’un des plans d’expansion à grande échelle de substrats InP à l’étranger les plus clairs annoncés à ce jour, et qu’il générera une demande substantielle à long terme en indium de haute pureté. Les phases détaillées de construction, les dates de mise en service, la répartition par taille de plaquettes et la consommation d’indium correspondante n’ont pas été divulguées.

Trymax Semiconductor Equipment a obtenu une commande pluriannuelle substantielle de plusieurs millions de dollars de la part d'Applied Optoelectronics, Inc. Trymax fournira des systèmes de gravure plasma et de durcissement ultraviolet pour l'élimination des résidus, la gravure de surface et le traitement des matériaux lors de la fabrication des plaquettes. L'équipement peut traiter des plaquettes en phosphure d'indium (InP) de 3 à 6 pouces et sera intégré à l'usine de fabrication de plaquettes d'Applied Optoelectronics à Sugar Land, au Texas. Applied Optoelectronics cultive et fabrique des plaquettes InP en interne pour produire des puces laser destinées aux émetteurs-récepteurs optiques à haut débit utilisés dans la connectivité des centres de données. L'entreprise a déclaré que l'équipement soutiendra l'expansion rapide de sa capacité de production de puces laser au Texas. SMM estime que la commande pluriannuelle indique que