【Flash | Trymax décroche une commande pluriannuelle d'équipements pour accroître la capacité de lasers au phosphure d'indium d'Applied Optoelectronics】

TOP Nanometal Corporation, un fabricant taïwanais de pulvérisation cathodique sous vide en continu, a cessé immédiatement la production de films conducteurs transparents en oxyde d'indium-étain. L'entreprise convertira entièrement ses anciens équipements dédiés à l'oxyde d'indium-étain vers la production haut de gamme de cuivre pulvérisé, en se concentrant sur les stratifiés souples cuivrés sans adhésif, les films de polyester cuivrés pour écrans transparents à diodes électroluminescentes et les films minces de cuivre pour électrodes flexibles. TOP Nanometal a attribué cette décision à l'intensification de la concurrence et à la réduction des marges bénéficiaires sur le marché des films d'oxyde d'indium-étain, tandis que la demande des clients et la rentabilité étaient plus fortes pour les produits en cuivre pulvérisé. SMM estime que cette fermeture montre que les films conventionnels d'oxyde d'indium-étain font face à une concurrence croissante en termes de coûts et de rentabilité de la part des matériaux conducteurs à base de cuivre dans certaines applications d'électronique flexible et d'affichage transparent. Cette conversion réduira la demande de l'entreprise en cibles d'oxyde d'indium-étain et en matières premières d'indium, bien que sa capacité de production antérieure, sa production, ses achats de cibles et sa consommation d'indium n'aient pas été divulgués.

JX Advanced Metals Corporation prévoit d’investir jusqu’à 120 milliards de yens sur quatre ans pour accroître fortement sa capacité de production de substrats en phosphure d’indium (InP) destinés aux communications optiques. En incluant les projets déjà annoncés, l’investissement cumulé de l’entreprise dans ce domaine atteindra environ 150 milliards de yens. En plus de l’extension de son usine actuelle d’Isohara, dans la préfecture d’Ibaraki, JX Advanced Metals installera des capacités supplémentaires dans la zone d’Hitachinaka, avec pour objectif de porter sa capacité de production de substrats InP à environ sept à dix fois son niveau actuel. L’entreprise a indiqué que les demandes de fourniture supplémentaire de la part de ses clients, liées à leurs propres projets d’expansion, ont fortement augmenté et que la demande progresse désormais au-delà de ses prévisions antérieures. Elle discutera également de révisions de prix avec ses clients afin de mettre en place un cadre d’approvisionnement stable. SMM estime qu’il s’agit de l’un des plans d’expansion à grande échelle de substrats InP à l’étranger les plus clairs annoncés à ce jour, et qu’il générera une demande substantielle à long terme en indium de haute pureté. Les phases détaillées de construction, les dates de mise en service, la répartition par taille de plaquettes et la consommation d’indium correspondante n’ont pas été divulguées.

[SMM Tantalum and Niobium Flash] NioBay Metals a publié le 13 octobre les premiers résultats de sa campagne de forage 2026 sur le projet niobium-tantale Crevier au Québec, Canada. La société a indiqué que les intersections de tantale dans les 13 premiers sondages dépassaient la teneur moyenne de sa plus récente estimation des ressources ; neuf sondages comprenaient des intervalles minéralisés de plus de 15 mètres au-dessus de cette moyenne. NioBay détient une participation de 80,2 % dans Crevier. Il s'agit de résultats d'exploration, et la société n'a déclaré ni nouvelle ressource ni réserve. Les premiers quelque 5 000 mètres ont ciblé une zone nord précédemment associée à des teneurs en tantale plus élevées. NioBay indique que les résultats supplémentaires alimenteront une mise à jour des ressources après la campagne, dont l'achèvement est prévu plus tard en octobre. Toute augmentation des ressources ou tout approvisionnement éventuel en oxydes de tantale et de niobium reste non prouvé ; il ne s'agit ni d'un démarrage de mine ni d'une production commerciale.