Luwig Optoelectronics: Lograda la producción en masa de máscaras semiconductoras en nodo de proceso de 180 nm

Publicado: Nov 4, 2025 09:36

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Luwwei Optoelectrónica declaró en la plataforma interactiva que la empresa ha logrado la producción en masa de máscaras semiconductoras en el nodo de proceso de 180 nm, mientras que las máscaras de 150 nm/130 nm han pasado la verificación del cliente y han entrado en producción en masa a pequeña escala. El Proyecto de Semiconductores Luxin, en el que la empresa ha invertido y construido, está posicionado para la producción de máscaras de 130-28 nm, con su diseño de nodos de proceso situándose entre los más avanzados de los productores nacionales. Actualmente, las máscaras semiconductoras de 90 nm y superiores han sido entregadas sucesivamente a los clientes para muestreo, y algunas han pasado la verificación del cliente. La producción de prueba de máscaras semiconductoras de 40 nm está programada para comenzar en el segundo semestre de 2025, y el proyecto actualmente avanza sin contratiempos.

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