【Flash | JX Advanced Metals có kế hoạch tăng công suất đế indi phosphua lên gấp bảy đến mười lần】
Tập đoàn JX Advanced Metals có kế hoạch đầu tư tới 120 tỷ yên trong vòng 4 năm nhằm mở rộng đáng kể năng lực sản xuất đế Indi Phosphua (InP) dùng trong truyền thông quang học. Tính cả các dự án đã công bố trước đó, tổng vốn đầu tư của công ty vào lĩnh vực này sẽ đạt khoảng 150 tỷ yên. Ngoài việc mở rộng Nhà máy Isohara hiện có tại tỉnh Ibaraki, JX Advanced Metals sẽ xây dựng thêm năng lực sản xuất tại khu vực Hitachinaka, với mục tiêu nâng công suất đế InP lên khoảng 7 đến 10 lần so với hiện tại. Công ty cho biết các yêu cầu cung cấp bổ sung từ khách hàng gắn với kế hoạch mở rộng của chính họ đã tăng mạnh và nhu cầu hiện đang vượt xa dự báo trước đó. Công ty cũng sẽ thảo luận việc điều chỉnh giá với khách hàng để thiết lập khung cung ứng ổn định. SMM nhận định đây là một trong những kế hoạch mở rộng đế InP quy mô lớn ở nước ngoài rõ ràng nhất được công bố cho đến nay và sẽ tạo ra nhu cầu dài hạn đáng kể đối với indi độ tinh khiết cao. Các giai đoạn xây dựng chi tiết, thời điểm vận hành, phân bố kích thước tấm wafer và mức tiêu thụ indi tương ứng chưa được công bố.