[ต้นแบบแหล่งกำเนิดแสง EUV ของจีนผลิตในประเทศได้ 90% การผลิตจำนวนมากยังต้องใช้เวลาอีก 3–5 ปี]
งานมหกรรมอุตสาหกรรมนานาชาติจีนครั้งที่ 26 จัดขึ้นที่ศูนย์การประชุมและนิทรรศการแห่งชาติ โดยมีผลงานทางวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีของเซี่ยงไฮ้กว่าร้อยรายการจัดแสดงในศาลาเทคโนโลยี นวัตกรรม ที่บูธของหลานตู้สุยหยาน ต้นแบบระบบแหล่งกำเนิดแสง EUV เปิดตัวครั้งแรกในงานนี้ ปัจจุบันนับเป็นต้นแบบแหล่งกำเนิดแสง EUV ที่พัฒนาในประเทศและจัดแสดงต่อสาธารณะที่ล้ำหน้าที่สุด และได้รับการขนานนามว่าเป็น “หัวใจ” ของเครื่องลิโธกราฟีระดับสูง แหล่งกำเนิดแสง EUV เป็นหนึ่งในสามชิ้นส่วนแกนหลักสำหรับการผลิตชิปกระบวนการขั้นสูงที่ 7 นาโนเมตรและต่ำกว่า ซึ่งถูกผูกขาดทางเทคโนโลยีและคว่ำบาตรจากต่างประเทศมาเป็นเวลานาน จึงเป็นจุดเชื่อมโยงสำคัญที่จำกัดความสามารถของจีนในการควบคุมชิประดับสูงด้วยตนเอง เจ้าหน้าที่ประจำบูธแนะนำว่าระบบแหล่งกำเนิดแสงที่จัดแสดงนี้มีอัตราการผลิตในประเทศถึง 90% โดยชิ้นส่วนแกนหลักส่วนใหญ่พัฒนาขึ้นเองผ่านการวิจัยและพัฒนา เส้นทางเทคนิคสอดคล้องกับผู้ผลิตชั้นนำระดับนานาชาติ และสามารถใช้สำหรับการทดสอบการฉายแสงบนชิปได้ แม้การผลิตเชิงพาณิชย์ยังต้องใช้เวลาอีก 3–5 ปี แต่ความก้าวหน้าครั้งนี้นับเป็นก้าวสำคัญในการนำแหล่งกำเนิดแสง EUV ของจีนจากห้องปฏิบัติการไปสู่การพัฒนาอุตสาหกรรม