[Прототип источника EUV-излучения в Китае достиг 90% локализации; до серийного производства ещё 3–5 лет]
На 26-й Китайской международной промышленной ярмарке, проходящей в Национальном выставочном и конференц-центре, в павильоне инновационных технологий представлено более ста научно-технических достижений Шанхая. На стенде компании Landau Suiyan впервые демонстрируется прототип системы источника света EUV. В настоящее время это самый передовой из публично представленных в Китае прототипов источников света EUV, который также называют «сердцем» высококлассных литографических машин. Источники света EUV являются одной из трёх ключевых составляющих для производства чипов по передовым техпроцессам 7 нм и ниже. Долгое время они находились под технологической монополией и эмбарго за пределами Китая, что делало их ключевым звеном, сдерживающим способность Китая самостоятельно контролировать производство высококлассных чипов. Сотрудники на месте пояснили, что представленная система источника света достигла 90-процентной локализации, при этом подавляющее большинство основных компонентов разработано собственными силами. Её технический маршрут совпадает с маршрутом ведущих мировых производителей, и она может использоваться для тестовой экспозиции чипов. Хотя до серийного производства ещё 3–5 лет, этот прорыв знаменует собой ключевой шаг в продвижении китайского источника света EUV от лабораторных исследований к индустриализации.