【Flash | Trymax garante pedido plurianual de equipamentos para expandir a capacidade de laser de fosfeto de índio da Applied Optoelectronics】

Publicado: Oct 15, 2026 15:55 (GMT+8)
A Trymax Semiconductor Equipment garantiu um pedido de compra substancial plurianual e multimilionário da Applied Optoelectronics, Inc. A Trymax fornecerá sistemas de plasma ashing e cura ultravioleta para remoção de resíduos, gravação de superfícies e tratamento de materiais durante a fabricação de wafers. O equipamento pode processar wafers de fosfeto de índio (InP) de 3 a 6 polegadas e será integrado à instalação de fabricação de wafers da Applied Optoelectronics em Sugar Land, Texas. A Applied Optoelectronics cultiva e fabrica wafers de InP internamente para produzir chips de laser para transceptores ópticos de alta velocidade usados em conectividade de data centers. A empresa afirmou que o equipamento apoiará a rápida expansão de sua capacidade de produção de chips de laser no Texas. A SMM acredita que o pedido plurianual indica que

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TOP Nanometal Corporation, fabricante taiwanesa de deposição por pulverização catódica rolo a rolo, interrompeu imediatamente a produção de filme condutor transparente de óxido de índio e estanho. A empresa converterá integralmente seus antigos equipamentos de óxido de índio e estanho para a produção de cobre pulverizado de alta qualidade, com foco em laminado flexível revestido de cobre sem adesivo, filme de poliéster revestido de cobre para telas transparentes de diodos emissores de luz e filmes finos de cobre para eletrodos flexíveis. A TOP Nanometal atribuiu a decisão à concorrência cada vez mais intensa e à redução das margens de lucro no mercado de filmes de óxido de índio e estanho, enquanto a demanda dos clientes e a rentabilidade eram maiores nos produtos de cobre pulverizado. A SMM acredita que o encerramento demonstra que o filme convencional de óxido de índio e estanho enfrenta uma concorrência crescente de custos e rentabilidade por parte dos materiais condutores à base de cobre em certas aplicações de eletrônica flexível e telas transparentes. A conversão reduzirá a demanda da empresa por alvos de óxido de índio e estanho e matéria-prima de índio, embora sua capacidade anterior de produção de filmes, produção, compras de alvos e consumo de índio não tenham sido divulgados.
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A JX Advanced Metals Corporation planeja investir até JPY 120 bilhões ao longo de quatro anos para expandir substancialmente sua capacidade de produção de substratos de fosfeto de índio (InP) usados em comunicações ópticas. Incluindo projetos anunciados anteriormente, o investimento acumulado da empresa nessa área chegará a aproximadamente JPY 150 bilhões. Além de expandir sua atual fábrica de Isohara, na província de Ibaraki, a JX Advanced Metals estabelecerá capacidade adicional na área de Hitachinaka, visando aumentar a capacidade de produção de substratos de InP para aproximadamente sete a dez vezes o nível atual. A empresa afirmou que as solicitações de fornecimento adicional por parte dos clientes, associadas aos seus próprios planos de expansão, aumentaram substancialmente e que a demanda agora cresce além das expectativas anteriores. A empresa também discutirá revisões de preços com os clientes para estabelecer uma estrutura de fornecimento estável. A SMM acredita que este é um dos planos de expansão de substratos de InP em larga escala no exterior mais claros anunciados até o momento e gerará uma demanda substancial de longo prazo por índio de alta pureza. As fases detalhadas de construção, datas de comissionamento, distribuição de tamanho de wafers e o consumo correspondente de índio não foram divulgados.
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