[SMM PV 뉴스] DMEGC, 접촉 저항 감소를 위한 태양전지 제조 방법 특허 출원

국가지식재산권국에 따르면, 헝뎬그룹 둥츠 주식회사가 "태양전지 제조 방법"이라는 명칭의 특허를 출원했으며, 공개번호는 CN122892299A이고 출원일은 2026년 6월이다.

특허 요약서에 따르면, 본 발명은 태양전지 기술 분야에 관한 것으로, 태양전지 제조 방법을 개시한다. 상기 태양전지 제조 방법은: 기저층의 수광면에 제1 도핑 반도체층을 형성하고, 기저층의 이면에 제2 도핑 반도체층을 형성하는 단계; 상기 제1 도핑 반도체층과 제2 도핑 반도체층 중 적어도 하나는 교대로 배열된 접촉 영역과 비접촉 영역을 포함하며, 상기 접촉 영역의 표면은 비접촉 영역의 표면에 비해 돌출되고, 접촉 영역의 도핑 농도는 비접촉 영역의 도핑 농도보다 큰 단계; 또는 기저층의 이면에 교대로 배열된 제1 도핑 반도체층과 제2 도핑 반도체층을 형성하고, 상기 제1 도핑 반도체층과 제2 도핑 반도체층을 접촉 영역으로 구성하는 단계; 및 제1 전극과 제2 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명은 영역별 차등 처리를 구현하여 접촉 저항을 낮추고, 전지의 개방 회로 전압과 단락 전류를 향상시킨다.