[중국 EUV 광원 프로토타입, 국산화율 90% 달성; 양산까지는 아직 3~5년]
제26회 중국국제공업박람회가 국가전시컨벤션센터에서 열리고 있으며, 혁신과학기술관에는 100여 개의 상하이 과학기술 성과가 전시되어 있다. 란다오쑤이옌 부스에서는 EUV 광원 시스템 시제품이 이번 박람회에서 처음 공개되었다. 이는 현재 공개 전시된 국내 자체 개발 EUV 광원 시제품 중 가장 앞선 것으로, 고급 노광기의 '심장'으로도 불린다. EUV 광원은 7nm 이하 첨단 공정 칩 제조의 3대 핵심 부품 중 하나로, 오랫동안 중국 외 지역의 기술 독점과 금수 조치를 받아 왔으며, 중국의 고급 칩 자주 통제를 제약하는 핵심 고리였다. 현장 직원은 전시된 광원 시스템이 90% 국산화를 달성했으며, 대부분의 핵심 부품이 자체 연구개발을 통해 이루어졌다고 소개했다. 기술 노선은 국제 선두 업체와 일치하며, 칩 노광 테스트에 사용할 수 있다. 양산까지는 아직 3~5년이 걸리지만, 이번 돌파는 중국 EUV 광원이 실험실에서 산업화로 나아가는 중요한 한 걸음을 의미한다.