Les arrivages limités prolongent le déstockage des stocks sociaux de silicium métal [Inventaire de silicium SMM]

[SMM Silicone Weekly Review: Stalemate in the tug-of-war between upstream and downstream in the silicone market, overall trading remains subdued] This week, China's silicone market was characterized by a stalemate, with firm cost support and weak end-use demand. Rising prices of upstream raw materials provided strong support for product prices, and enterprises showed sufficient willingness to maintain stable prices. However, downstream end-user follow-through was sluggish, and overall market transactions were mainly driven by restocking for rigid demand. The industry was dominated by a strong wait-and-see sentiment, and price trends across various product categories showed structural divergence.

TOP Nanometal Corporation, un fabricant taïwanais de pulvérisation cathodique sous vide en continu, a cessé immédiatement la production de films conducteurs transparents en oxyde d'indium-étain. L'entreprise convertira entièrement ses anciens équipements dédiés à l'oxyde d'indium-étain vers la production haut de gamme de cuivre pulvérisé, en se concentrant sur les stratifiés souples cuivrés sans adhésif, les films de polyester cuivrés pour écrans transparents à diodes électroluminescentes et les films minces de cuivre pour électrodes flexibles. TOP Nanometal a attribué cette décision à l'intensification de la concurrence et à la réduction des marges bénéficiaires sur le marché des films d'oxyde d'indium-étain, tandis que la demande des clients et la rentabilité étaient plus fortes pour les produits en cuivre pulvérisé. SMM estime que cette fermeture montre que les films conventionnels d'oxyde d'indium-étain font face à une concurrence croissante en termes de coûts et de rentabilité de la part des matériaux conducteurs à base de cuivre dans certaines applications d'électronique flexible et d'affichage transparent. Cette conversion réduira la demande de l'entreprise en cibles d'oxyde d'indium-étain et en matières premières d'indium, bien que sa capacité de production antérieure, sa production, ses achats de cibles et sa consommation d'indium n'aient pas été divulgués.

JX Advanced Metals Corporation prévoit d’investir jusqu’à 120 milliards de yens sur quatre ans pour accroître fortement sa capacité de production de substrats en phosphure d’indium (InP) destinés aux communications optiques. En incluant les projets déjà annoncés, l’investissement cumulé de l’entreprise dans ce domaine atteindra environ 150 milliards de yens. En plus de l’extension de son usine actuelle d’Isohara, dans la préfecture d’Ibaraki, JX Advanced Metals installera des capacités supplémentaires dans la zone d’Hitachinaka, avec pour objectif de porter sa capacité de production de substrats InP à environ sept à dix fois son niveau actuel. L’entreprise a indiqué que les demandes de fourniture supplémentaire de la part de ses clients, liées à leurs propres projets d’expansion, ont fortement augmenté et que la demande progresse désormais au-delà de ses prévisions antérieures. Elle discutera également de révisions de prix avec ses clients afin de mettre en place un cadre d’approvisionnement stable. SMM estime qu’il s’agit de l’un des plans d’expansion à grande échelle de substrats InP à l’étranger les plus clairs annoncés à ce jour, et qu’il générera une demande substantielle à long terme en indium de haute pureté. Les phases détaillées de construction, les dates de mise en service, la répartition par taille de plaquettes et la consommation d’indium correspondante n’ont pas été divulguées.