Las llegadas limitadas extienden la reducción del inventario social de silicio metálico [Inventario de silicio SMM]

[SMM Silicone Weekly Review: Stalemate in the tug-of-war between upstream and downstream in the silicone market, overall trading remains subdued] This week, China's silicone market was characterized by a stalemate, with firm cost support and weak end-use demand. Rising prices of upstream raw materials provided strong support for product prices, and enterprises showed sufficient willingness to maintain stable prices. However, downstream end-user follow-through was sluggish, and overall market transactions were mainly driven by restocking for rigid demand. The industry was dominated by a strong wait-and-see sentiment, and price trends across various product categories showed structural divergence.

TOP Nanometal Corporation, fabricante taiwanés de recubrimiento por pulverización catódica rollo a rollo al vacío, ha interrumpido con efecto inmediato la producción de película conductora transparente de óxido de indio y estaño. La empresa convertirá por completo sus antiguos equipos de óxido de indio y estaño a la producción de cobre pulverizado de gama alta, centrándose en laminado flexible revestido de cobre sin adhesivo, película de poliéster recubierta de cobre para pantallas transparentes de diodos emisores de luz y películas delgadas de cobre para electrodos flexibles. TOP Nanometal atribuyó la decisión a la intensificación de la competencia y a la reducción de los márgenes de beneficio en el mercado de películas de óxido de indio y estaño, mientras que la demanda de los clientes y la rentabilidad eran mayores en los productos de cobre pulverizado. SMM considera que el cierre demuestra que la película convencional de óxido de indio y estaño se enfrenta a una creciente competencia en costes y rentabilidad por parte de los materiales conductores basados en cobre en determinadas aplicaciones de electrónica flexible y pantallas transparentes. La conversión reducirá la demanda de la empresa de blancos de óxido de indio y estaño y de materia prima de indio, aunque no se revelaron su capacidad anterior de película, producción, compras de blancos ni consumo de indio.

JX Advanced Metals Corporation planea invertir hasta 120.000 millones de yenes en cuatro años para ampliar sustancialmente su capacidad de producción de sustratos de fosfuro de indio (InP) utilizados en comunicaciones ópticas. Incluyendo los proyectos anunciados anteriormente, la inversión acumulada de la empresa en este ámbito alcanzará aproximadamente 150.000 millones de yenes. Además de ampliar su actual planta de Isohara, en la prefectura de Ibaraki, JX Advanced Metals instalará capacidad adicional en la zona de Hitachinaka, con el objetivo de aumentar la capacidad de producción de sustratos de InP hasta aproximadamente entre siete y diez veces su nivel actual. La empresa señaló que las solicitudes de suministro adicional por parte de los clientes, asociadas a sus propios planes de expansión, han aumentado considerablemente y que la demanda está creciendo más allá de sus expectativas anteriores. También debatirá revisiones de precios con los clientes para establecer un marco de suministro estable. SMM considera que este es uno de los planes de expansión de sustratos de InP a gran escala en el extranjero más claros anunciados hasta la fecha y que generará una demanda sustancial a largo plazo de indio de alta pureza. No se revelaron las fases detalladas de construcción, las fechas de puesta en marcha, la distribución por tamaños de oblea ni el consumo correspondiente de indio.