【Flash | Trymax consigue un pedido plurianual de equipos para ampliar la capacidad de láser de fosfuro de indio de Applied Optoelectronics】

TOP Nanometal Corporation, fabricante taiwanés de recubrimiento por pulverización catódica rollo a rollo al vacío, ha interrumpido con efecto inmediato la producción de película conductora transparente de óxido de indio y estaño. La empresa convertirá por completo sus antiguos equipos de óxido de indio y estaño a la producción de cobre pulverizado de gama alta, centrándose en laminado flexible revestido de cobre sin adhesivo, película de poliéster recubierta de cobre para pantallas transparentes de diodos emisores de luz y películas delgadas de cobre para electrodos flexibles. TOP Nanometal atribuyó la decisión a la intensificación de la competencia y a la reducción de los márgenes de beneficio en el mercado de películas de óxido de indio y estaño, mientras que la demanda de los clientes y la rentabilidad eran mayores en los productos de cobre pulverizado. SMM considera que el cierre demuestra que la película convencional de óxido de indio y estaño se enfrenta a una creciente competencia en costes y rentabilidad por parte de los materiales conductores basados en cobre en determinadas aplicaciones de electrónica flexible y pantallas transparentes. La conversión reducirá la demanda de la empresa de blancos de óxido de indio y estaño y de materia prima de indio, aunque no se revelaron su capacidad anterior de película, producción, compras de blancos ni consumo de indio.

JX Advanced Metals Corporation planea invertir hasta 120.000 millones de yenes en cuatro años para ampliar sustancialmente su capacidad de producción de sustratos de fosfuro de indio (InP) utilizados en comunicaciones ópticas. Incluyendo los proyectos anunciados anteriormente, la inversión acumulada de la empresa en este ámbito alcanzará aproximadamente 150.000 millones de yenes. Además de ampliar su actual planta de Isohara, en la prefectura de Ibaraki, JX Advanced Metals instalará capacidad adicional en la zona de Hitachinaka, con el objetivo de aumentar la capacidad de producción de sustratos de InP hasta aproximadamente entre siete y diez veces su nivel actual. La empresa señaló que las solicitudes de suministro adicional por parte de los clientes, asociadas a sus propios planes de expansión, han aumentado considerablemente y que la demanda está creciendo más allá de sus expectativas anteriores. También debatirá revisiones de precios con los clientes para establecer un marco de suministro estable. SMM considera que este es uno de los planes de expansión de sustratos de InP a gran escala en el extranjero más claros anunciados hasta la fecha y que generará una demanda sustancial a largo plazo de indio de alta pureza. No se revelaron las fases detalladas de construcción, las fechas de puesta en marcha, la distribución por tamaños de oblea ni el consumo correspondiente de indio.

[SMM Tantalio y Niobio Flash] NioBay Metals informó el 13 de octubre los resultados iniciales de su campaña de perforación 2026 en el proyecto de niobio-tantalio Crevier en Quebec, Canadá. La compañía señaló que las intersecciones de tantalio en los primeros 13 pozos superaron la ley promedio de su estimación de recursos más reciente; nueve pozos incluyeron intervalos mineralizados de más de 15 metros por encima de dicho promedio. NioBay posee una participación del 80,2 % en Crevier. Estos son resultados de exploración y la compañía no ha declarado un nuevo recurso ni reserva. Los primeros aproximadamente 5.000 metros apuntaron a una zona norte previamente asociada con leyes más altas de tantalio. NioBay indica que los resultados adicionales alimentarán una actualización de recursos tras la campaña, que espera finalizar a fines de octubre. Cualquier aumento de recursos o eventual suministro de óxidos de tantalio y niobio sigue sin comprobarse; esto no constituye el inicio de una mina ni producción comercial.