La empresa Highpower Technology Co., Ltd. de Shenzhen reveló recientemente una patente titulada "Material compuesto de silicio y carbono, método de preparación del mismo y electrodo negativo", que muestra la innovación central de la compañía en el campo de los materiales de ánodo basados en silicio.
La característica clave de esta patente reside en un diseño único de recubrimiento compuesto con "dieléctrico gradual", que mejora sistemáticamente el rendimiento de los materiales de ánodo de silicio y carbono durante los procesos de carga y descarga mediante una doble regulación física y electroquímica.
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